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H94-17G型单面掩模对准器

更新时间:2015/2/9      View:
  • 牌:    SVC
  • 类型:    H94-17G
  • 价钱:     RMB
  • 促销:     RMB (0购买的客户)
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介绍
 

主要用途

该机器用于开发和制造中小型集成电路,半导体器件,光电器件和声表面组件。

主要结构

它由高精度对准工作台,双目野外显微镜(或CCD显微显示系统),光头,气动系统,真空管道系统,整体式真空泵,抗振工作台和附件箱等组成。


主要功能特点

1.广泛的应用
用于对直径小于100mm的各种基材进行光蚀刻 厚度低于5mm,包括非圆形基材。

2.先进的结构
气浮调平机构;真空密封机构,实现真空硬接触,软接触和小力接触;真空面罩框架和真空吸盘。

3.方便的操作
它通过翻转板来获取并放置基板。通过按下按钮,可以实现掩模,基板,浮球和扫描锁定的真空吸附。操作,调试非常简单方便
维护和修理。

4.高可靠性
采用进口电磁阀,按钮,定时器。凭借独特的气动系统,真空管道系统和零件的精密加工,该系统具有很高的可靠性。

5,处理碎片的特殊功能
它解决了由于掩模和衬底之间的粘附而导致掩模和衬底无法对齐的问题,这种粘附是由非圆形衬底,碎片和衬底底面不平坦引起的。


主要规格

最佳曝光线:1.5μm
对准精度:1μm
固定掩膜和基板的方式:真空吸附
微定位器最大位移
范围X,Y:±4mm
微定位仪扫描范围
X,Y:±20mm

最大摆角
轴承平台:90°
最大提升高度:5mm
平行均匀光源的出射光束直径:115mm
光的非平行性:
≤± 6°
光的不均匀性:
≤± 5%
200瓦汞灯启动
直流,风扇冷却
双目射野显微镜
(或CCD显微显示系统)放大倍数:
30×-375×
双物镜距离:

20-69毫米
功率:
压缩的空气:
3.5kg
电压:AC220V / 50Hz
功率:1000W
外形尺寸:
918×680×1300(L×W×H)

重量:160kg





真空吸附框架


X,Y扫描结构
气浮调平机构

 

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