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H94-27型单面掩模对准器

更新时间:2015/2/9      View:
  • 牌:    SVC
  • 类型:    H94-27
  • 价钱:     RMB
  • 促销:     RMB (0购买的客户)
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介绍


 

 

主要用途

该机器用于开发和制造中小型集成电路,半导体器件,声表面波组件。
由于先进的流平机制和较小的流平力,该机器不仅适用于曝光硅晶片,玻璃晶片,陶瓷晶片,宝石晶片,而且还适用于易碎基板(如K3As和InP)以及非圆形基板和小尺寸基板。

主要结构

它由高精度对准工作台,双目野战显微镜(或CCD显微图像显示器)组成 系统),多点光源(飞眼)phtotohead,PLC电气控制系统,气动系统,真空管道系统,整体式真空泵,两级抗振工作台,配件箱等。


主要功能特点

1.广泛的应用
它用于对直径小于Φ150mm(最小尺寸为5×5mm)且厚度小于5mm的各种基板进行光蚀刻,包括非圆形基板。

2.高分辨率
采用高均匀度的多点光源(蝇眼)光头,完善的三点调平机构和稳定可靠的真空密封装置,大大提高了机器的曝光分辨率。

3.高精度&高速对准
对准模式的特点是带有固定式掩模框架和可移动基板的底下式五重导轨。承重平台升降采用球面导向,气动Z轴机构和双簧片微分离机构,使基板与掩模之间的接触和分离漂移小,精度高,对准速度快,从而可重复使用成品率提高。

4.高可靠性
该机采用PLC控制器,进口电磁阀,按钮,独特的气动系统,真空管道系统及零件,均采用精密的机器生产工艺加工而成,具有很高的可靠性,操作,维护,维修非常简单方便。

5.处理片段的特殊功能
它解决了掩模框架和基板之间由于彼此不粘而无法对准的问题,这是由于基板非圆形,碎片和基板底面不平整引起的。

 

主要规格

◆基板尺寸:6”,5”,4”,厚度:≤5mm
◆口罩框尺寸:
□7″×7″,□6″×6″,□5″×5″
◆对准范围: 
粗调X,Y:±3mm 
微调:±0.3mm 
粗调Q:±15° 
微调:±3°
◆对准精度:≤1μm
◆扫描观察范围:≥±15mm
微间距:0-50μm可调
◆曝光范围:≥Φ165mm
◆曝光分辨率:1.5μm
◆硬接触,软接触和小力接触
◆多点光源(飞眼)光头, 
光不均匀度:≤±3%,350瓦汞灯由直流电,风扇冷却启动
◆曝光时间:0-999.9秒,可调
◆发光强度:≥12mw/厘米 2可调
◆双目视野分裂显​​微镜
放大倍率:30×-375×
双物镜距离:20-69mm或CCD显微显示系统
放大倍率:60×-400×
双物镜
距离:45-150mm 
◆触点分离漂移:≤1μ 
◆PLC控制器,进口电磁阀,按钮,指示灯和计时器
◆电源
压缩空气:3.5kg
电压:AC220V / 50Hz
功率:1000W
◆外形尺寸: 
870×680×1700(长×宽×高)
◆重量:180kg



多点光源
(飞眼)
膜片,发光强度可调



的位置获取机制 推拉模式

三点调平机制高精度调节机构(X,Y,Z,θ)


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