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H94-31型4″雙面光刻機

更新:2017-1-9 15:26:10      点击:
  • 品牌:   SVC
  • 型號:   H94-31型
  • 市場價:    元
  • 優惠價:    元 (已有 0 人購買)
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產品介紹

 

主要用途
主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路的研製和生產。
 

工作方式
本機採用版—版對準雙面同時曝光方式,亦可用於單面曝光。
 

主要構成
主要由高精度對準工作臺、Z軸升降機構、雙視場CCD顯微顯示系統)、二臺多面反射式曝光頭、真空管路系統、氣路系統、直聯式真空泵、防震工作臺等組成。

 

CCD顯微系統|X、Y、Q對準工作臺|Z軸升降機構

 

主要功能特點
1.適用範圍廣
適用於φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2.结构先进
Z軸採用滾珠直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密着機構,真空吸版,防粘片機構。
3.操作简便
X\Y移動、Q轉、Z軸升降採用手動方式;
吸版、反吹採用按鈕方式,操作、調試、維護、修理都非常簡便。
4.可靠性高
採用進口電磁閥、按鈕、定時器;採用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的零件加工,使本機具有非常高的可靠性。

 

主要技術指標
◆曝光類型:單面對準雙面曝光
◆曝光面積:≥φ120mm
◆曝光不均勻性:≤±6%
◆曝光強度:≥5mw/cm2(365nm、404nm、435nm的組合紫外光)
◆曝光分辨率:≤2μm
◆曝光模式:雙面同時曝光
◆對準精度:上版與下版的對準精度≤5μm
◆對準範圍:X:±5mm Y:±5mm
◆旋轉範圍:Q向旋轉調節≥±5°
◆最大升降:≥20mm
◆密着曝光方式:密着曝光可實現硬接觸、 軟接觸和微力接觸曝光;

◆顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡45X~300X連續變倍(物鏡1.1X~7.5X),顯微鏡掃
描範圍:X:±40mm, Y:±35mm;雙物鏡距離可調範圍:11mm~100 mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;
◆掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度:≤5 mm
◆曝光燈功率:直流2×200W
◆曝光定時:0~999.9秒可調
◆電源:單相AC 220V 50Hz 功耗≤1kW
◆潔淨壓縮空氣壓力:≥0.4Mpa
◆真空度:-0.07Mpa~-0.09Mpa
◆尺寸: 985×680×1450 (L×W×H)mm;
◆重量:~160kg

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