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H94-17G型4″單面光刻機

更新:2017-1-9 16:00:43      点击:
  • 品牌:   SVC
  • 型號:   H94-17G型
  • 市場價:    元
  • 優惠價:    元 (已有 0 人購買)
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產品介紹

主要用途 

主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲 表面波器件的研製和生產。

 

主要構成 
主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、曝 光頭、氣動系統、真空管路系統、直聯式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。
  

主要功能特點 
1.適用範圍廣
 適用於Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
 2.结构先进
 具有氣浮式找平機構和可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密着機構;具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
 3.操作简便
 採用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可實現真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能,操作、調試、維護、修理 都非常簡便。
 4.可靠性高
 採用進口電磁閥、按鈕、定時器;採用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的機械零件,使本機具有非常高的可靠性。
 5.特设“碎片”处理功能
 解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。

 

 主要技術指標

◆曝光類型:單面
◆曝光面積:≥φ120mm
◆光束不平行度:≤6°
◆曝光不均勻性:≤±5%
◆曝光強度:≥5mw/cm2
◆曝光分辨率:≤1.5μm
◆曝光模式:套刻曝光
◆對準精度:1μm
◆掃描範圍:X:±40mm   Y:±35mm
◆對準範圍:X、Y調節±4mm,旋轉調節90°
◆最大升降:8mm
◆密着曝光方式:密着曝光可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;
◆顯微系統:雙視場CCD系統;放大倍數5X~300X连续可調(物鏡   1.1~7.5倍連續可調);雙物鏡距離可調範圍11mm~100 mm;計算機圖像處理系統;
◆掩模版尺寸:2.5″×2.5″、4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度:≤5 mm
◆曝光燈功率:直流200W
◆曝光定時:0~999.9秒可調
◆電源:AC220V  50Hz 1kW
◆空氣:P≥0.1MPa,耗氣量0.2m3/小時;
◆真空度:-0.07MPa~-0.09MPa
◆外形尺寸:918×680×1450(L×W×H)mm
◆重量:~160kg 

 

空吸附式板架


X、Y掃描機構 | 氣浮式找平機構


 


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